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28納米光刻機

28納米光刻機

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光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

“02專項“為何非要選擇28納米光刻機這么一個數字？

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“02專項”選擇28納米光刻機作為目標，并非隨意之舉，而是基于多方面的考量和技術限制。以下是對此選擇的詳細分析：一、技術可行性最佳分辨率：28納米是193nm ArF激光干法光刻結合double patterning技術所能達到的最佳分辨率。這種技術組合在現有條件下具有相對較高的可行性。單次光刻的分辨率受限于光源波長、透鏡組數值孔徑以及曝......

28nm... 28納米...

2021-12-07

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